大的就是浸润式光刻模组。

    这个模组,也是浸润式光刻机名字的由来。

    聊到浸润式光刻模组,那就不得不聊一下投影物镜模组与光刻机的原理。

    简单概括一下,光刻机的原理就是利用紫外光,在晶圆上进行雕刻。

    投影物镜的作用,就是将照明模组发射出的紫外光收进物镜内,并聚焦成像在晶圆上。

    一般来说,由瑞利公式可以得出结论。

    投影物镜是越粗,最后制造出来的芯片性能就会更高。

    但是投影物镜要是太粗,又会发生全反射现象,紫外光就无法在晶圆上聚焦了。

    换而言之,物镜不够粗,芯片性能就不行。

    物镜太粗,直接造不出来了。

    这个时候,有人提出了一个天才般的想法。

    在晶圆上滴一滴水。

    水折射率更高,更不容易发生全反射现象。

    这样一来物镜就能做的更粗,造出的芯片就更强。

    这也就是浸润式光刻机这个名字的由来。

    将晶圆用水浸润了嘛。

    但这又面临了一个巨大的问题。

    晶圆成像时温度会升高,需要流动的水来进行降温。

    但在成像过程中,又要求这流动的水能像光学镜头一样光滑,不能有扰动。

    出现扰动会怎么样?

    晶圆会报废。

    所以这“水”,其实不是一般的水。

    这个难题,一直都有困扰着腾达研发中心甚至是全世界相关领域的专家。

    腾达研发中心虽有进度,但是进度很慢。

    当初黎星若向陈腾提出光刻机制造过程中的难点时,也有提到这个问题衍生出来的子问题。

    可是现在,系统把这整个模组的技术详解都给了陈腾。

    陈腾将原来超级快充技术详解的U盘拔出,把浸润式光刻模组技术详解的U盘插入。

    打开里面的内容一看。

    很好,陈腾基本上全都看不懂。

    不过陈腾却忍不住笑出了声来。

    这次啊,真的是赚大了!

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